一、氢气还原炉用途
氢气还原炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料、荧光粉的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在还原、惰性气氛环境下进行烧结。
二、氢气还原炉特点
1、控制精度：±1℃ 炉温均匀度：±1℃(根据加热室大小而定) 。
2、微电脑控制，操作方便，可编程，自动升温、自动保温、自动降温。
3、炉管采用刚玉99陶瓷。
4、不锈钢金属法兰密封（双胶圈）
5、炉体温度接近室温
6、双回路保护
7、进口耐火材料，保温性能好，耐温高
8、最大真空度 -0.1Mpa
9、可通多种气体（氧气、氮气、氩气、氢气等）
10、温度类别：1000℃ 1200℃ 1400℃ 三种
三、氢气还原炉参数
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型号
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炉膛尺寸（mm）D×W×H
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功率（kw）
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最高温度℃
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额定温度℃
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加热元件
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电压
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升温速率
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TDRG1400-20
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200×150×150
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5
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1400℃
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1300℃
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硅碳棒
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220V
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≤20℃/min
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TDRG1400-30
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300×200×200
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7
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1400℃
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1300℃
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硅碳棒
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220V
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≤20℃/min
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TDRG1400-30A
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300×250×250
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8
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1400℃
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1300℃
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硅碳棒
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380V
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≤20℃/min
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TDRG1400-40
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400×300×300
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12
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1400℃
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1300℃
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硅碳棒
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380V
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≤20℃/min
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注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！