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在线CVD技术与离线真空磁控溅射工艺优劣对比

  离线真空磁控溅射工艺,是在玻璃表面镀上具有低辐射作用的金属银功能膜,两侧必须加上多层介质膜作为保护和过渡膜层,膜层与玻璃通过物理键结合。
  这种“软镀膜”产品有下列局限:膜层容易受到划伤或损坏;由于银极易氧化,膜层在接触到空气后会退化,因而其寿命有限;在短时间内必须将镀膜后的玻璃合成中空;如进行钢化等深加工时一般在镀膜之前完成。
  在线LOW-E采用具有世界领先水平的在线CVD技术,在浮法玻璃生产过程中,当玻璃处于近700℃高温时,在表面上镀上半导体金属氧化物,膜层同玻璃通过化学键结合,成为玻璃表面的一部分。因而具有很好的化学稳定性和热稳定性。
  这种“硬镀膜”产品具有如下特性:可单片使用;膜层牢固,耐用,实现永久节能;在合成中空时无需除去边部膜层,可像普通浮法玻璃一样进行热弯、钢化等深加工和储存。
 

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