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1 前言
以往生产低辐射镀膜玻璃循序一般是按照客户的订单先切割玻璃成为客户所需的尺寸，再磨边、钢化、镀膜、中空、装箱、发货。这种生产循序的问题是，上片率不高，补片麻烦、交货日期延后、成本浪费。而可钢化低辐射镀膜玻璃的生产循序是，先镀玻璃原片，再切割、磨边、钢化、中空、装箱、发货。克服了以上几个缺点，同样的功率消耗，生产可最大化，多备点镀膜片库存即可直接改切客户所需要的订单，又可改切后工序及客户安装过程中报损的玻璃，大大降低了生产成本和交货日期。为公司带来了良好的效益。
2 可钢化低辐射镀膜玻璃生产过程中需注意的问题
可钢化低辐射镀膜玻璃技术与生产是一个比较难的课题，以前是切割、磨边、钢化、镀膜、中空；现在是镀膜、切割、磨边、钢化、中空。镀膜工序被拉前到了第一个工序，直到在中空线做出成品，中间要经历切割刀头上的切割油，要碰到磨边是的玻璃粉，清洗机的毛刷，以及钢化炉近700℃的高温，所以，可钢化低辐射镀膜玻璃的膜层必须要好，这取决于镀膜工艺以及后工序的规范操作。
对于镀膜工艺，所有膜层的热工性能必须是稳定的，它们必须能承受700℃的钢化工艺过程。必须设置足够厚的阻挡层防止玻璃表层的钠离子扩散至膜层，而银层的两相邻边必须有很好的包裹，防止内外层对银层的影响，致使银层氧化和硫化。顶层膜必须具有足够的抗化学和机械的能力，防止在搬运处置过程中的机械损伤和化学破坏。在生产可钢化低辐射镀膜玻璃时必须注意以下几点：
（1）原片要求在一个月以内，储存在干燥的仓库内，并且保证包装完好。
（2）要求镀膜机清洗机水质电阻率在10兆欧以上。
（3）镀膜后的大片进堆垛机的第一片需贴保护膜，后面的大片需均匀喷隔离粉。
（4）镀完一包需用锡箔纸封边打包，并沿边放置有效干燥剂。
（5）可钢化低辐射镀膜玻璃工作区域需佩戴皮手套、口罩等劳保用品。
（6）采用轻质易挥发切割油切割，防止切割成小片的玻璃膜面尘埃积聚。
（7）可钢化低辐射镀膜玻璃磨边时必须装换成软毛刷。
（8）钢化必须选择适当的工艺来生产可钢化低辐射镀膜玻璃。
3 可钢化低辐射镀膜玻璃膜系的探索
真空溅射镀Low-E玻璃的膜层系列基本是以银（Ag）层作为功能膜的一种三明治结构，即用两层高透过率的减反射膜，中间夹一层很薄的银膜。典型的结构是：玻璃／保护层／银层／保护层。而Low-E玻璃的关键性能参数是辐射率E。E值是由膜层材料的面电阻和膜层的表面粗糙度决定的，E值随着膜层的面电阻和膜层表面的粗糙程度的增大而增大。由于银是金属导体中电阻率最小的材料，所以银层很薄的时候，其E值能达到最小，单银膜的E值能达到0.1以下，而双银膜E值能达到0.05左右。两层减反射膜一般是SiN，其作用是多方面的，保护不耐腐蚀的银膜，调节玻璃的颜色，增加可见光的透过率等。SiN膜的耐久性、附着性和耐酸碱腐蚀性都较好。
可钢化低辐射镀膜玻璃在镀膜工艺后面多了一道钢化工艺。要做到玻璃钢化前后透过率、反射率以及颜色参数完全一样或者是在国家标准允许的色差范围内，其中的难度可想而知。当对Low-E膜玻璃进行钢化加热的时候，外界氧气会向外层保护膜深度方向上扩散，当氧气扩散到银层时，会将银膜氧化变色，银层完全被破坏。经过多方面的研究，本人认为可钢化低辐射镀膜玻璃的两种生产膜系比较好用：a、G/Si/NiCr/Ag/NiCr/Si，这种生产膜系适合透过率在50％以下的可钢化低辐射镀膜产品；b、G/Si/ZnAl/Ag/NiCr/Si，这种膜系适合透过率在50％以上的可钢化低辐射镀膜玻璃产品。
镀膜系a的镀膜玻璃时，保证前后SiN有一定厚度，对几组变量进行了分析：
小结：当镀膜系a镀膜玻璃时，NiCr前后比例一样的情况下，生产透过率在50％以下的可钢化低辐射玻璃时，不管是从钢化前后的外观、颜色的比较，还是从钢化前后玻璃的性能比较，都是很好的膜系。
镀膜系b的镀膜玻璃时，保证ZnAl在12nm左右的情况下，也对几组变量进行了分析：
小结：当镀膜系b镀膜玻璃时，保证ZnAl在12nm左右的情况下，生产透过率在50％以上的可钢化低辐射镀膜玻璃，不管是从钢化前后的外观、颜色的比较，还是从钢化前后玻璃的性能比较，都是很好的膜系。
4 生产G/Si/NiCr/Ag/NiCr/Si膜系产品时各膜层需注意的问题
关于膜系的确定问题，很多镀膜方面的专家都已经从事了多年的研究，再就是由于厂家的镀膜机的差异，工艺人员的个人喜好，所以适合可钢化的膜系不可能是唯一的，下面只针对G/Si/NiCr/Ag/NiCr/Si膜系说说本人的研究心得。
4.1 功能Ag层
普通的Low-E膜层，银膜的厚度为9nm，辐射率为0.1左右，根据公式e=0.0129R口-6.7×10-5R口2，这里R口=p/d，单位为Q，p是电阻率，d是银膜厚度，计算得出电阻率相当于7.2Ω·m。为了得到辐射率为0.05的产品，银膜厚度需要增加到18nm，但此时可见光透过率将跌到80％以下，所以低的辐射率和高的可见光透过是一个相互矛盾的方向，根据客户的需要可以调节前后保护层来达到客户所需要的透过率、反射率及颜色值。
4.2 外层阻挡层NiCr
其作用就是为了防止大气中的O2破坏Ag层，很多厂家为了得到高性能的低辐射镀膜玻璃，从而减少NiCr来提高玻璃的透过率，但是我们不能忽略NiCr在可钢化低辐射镀膜工艺中所起到的作用。这也是前一章中强调的前后NiCr层都要有一定的厚度的原因。
4.3 底层阻挡层NiCr
为了提高可钢化Low-E的膜层吸附的牢固度和防霉印、水印等一些缺陷的发生，采用尽量新鲜的浮法玻璃原片就显得尤其重要（这方面在其他文章里已有详细说明）。由于原片是新鲜的，带来了另外一个问题，来自于原片玻璃内部的高活性的Na+（生产玻璃原片所用到的原料中含有钠盐）仍然保持高的活性，而SiN膜层不可能完全致密，所以一些体积极小的活性Na+会穿过SiN膜而接触到金属Ag层，并且与Ag层中的电子发生作用从而影响到Ag的稳定性。而此时就需要NiCr来保护Na+对Ag层的攻击。据大多数生产厂家而言，都会在NiCr中加入少量的O2，使得部分NiCr变成NiCrOX，从而更好的吸收Na+。
5 结语
可钢化低辐射镀膜玻璃，一改以前生产的局限性，把镀膜工艺提前到第一道生产工序，这样大大的提高了生产厂家的效益与效率，也必将是未来玻璃深加工行业的发展趋势。所以可钢化低辐射镀膜玻璃的镀膜工艺显得尤为重要，先必须确定一套适合自身镀膜设备的膜系，再确定好前后保护膜层SiN的厚度，最后就是针对中间三层的调节，如何确定这三种膜的厚度就显得尤为重要，必须从成本、市场需求、风险考验等等一些因素综合考虑，能经受时间和市场考验的Low-E玻璃产品才能算是成熟的产品。
